PROGRAMA DE APOIO AO DESENVOLVIMENTO TECNOLÓGICO DA INDÚSTRIA DE SEMICONDUTORES - PADIS
Normas
Sumário
1. INTRODUÇÃO
Regulamentado, por meio do Decreto nº 6.233, de 11.10.2007 (DOU de 15.10.2007), o Programa de Apoio ao Desenvolvimento Tecnológico da Indústria de Semicondutores - PADIS, instituído pela Lei nº 11.484, de 31.05.2007, em seus arts. 1º a 11.
2. BENEFÍCIOS DO PADIS
O PADIS reduz a 0 (zero), até 22 de janeiro de 2022, as alíquotas:
a) da Contribuição para o PIS/PASEP e para a COFINS, incidentes sobre a receita bruta da venda no mercado interno à pessoa jurídica habilitada ao programa, de:
a.1) máquinas, aparelhos, instrumentos e equipamentos, novos, listados no Anexo II abaixo, para a incorporação ao ativo imobilizado da adquirente, destinados às atividades definidas no subitem 3.2 abaixo; e
a.2) ferramentas computacionais (softwares) e dos insumos das atividades definidas no subitem 3.2 abaixo;
b) da Contribuição para o PIS/PASEP-Importação e da COFINS-Importação, incidentes sobre a importação, realizada por pessoa jurídica habilidada ao PADIS, de:
b.1) máquinas, aparelhos, instrumentos e equipamentos, novos, para a incorporação ao ativo imobilizado da importadora, destinados às atividades definidas no subitem 3.2 abaixo; e
b.2) ferramentas computacionais (softwares) e dos insumos das atividades definidas no subitem 3.2 abaixo;
Nota: Equipara-se a importador a pessoa jurídica adquirente de bens estrangeiros, quando da importação por sua conta e ordem através de pessoa jurídica importadora.
c) da Contribuição para o PIS/PASEP e para a COFINS incidentes sobre as receitas auferidas pela pessoa jurídica habilitada ao PADIS, nas operações de vendas de projetos (design) e de dispositivos eletrônicos semicondutores e mostradores de informação (displays), definidos no subitem 3.2 abaixo.
Nota: A redução citada na letra “c” acima não se aplica no caso em que a pessoa jurídica seja benficiária de outras reduções ou benefícios relativos às mesmas contribuições.
3. HABILITAÇÃO AO PADIS
3.1 - Obrigatoriedade da Habilitação
Somente poderá ser beneficiária do PADIS a pessoa jurídica previamente habilitada pela Secretaria da Receita Federal do Brasil.
3.2 - Pessoas Jurídicas Que Podem Requerer a Habilitação
A habilitação ao PADIS pode ser requerida por pessoa jurídica que tenha projetos aprovados em portaria conjunta dos Ministérios da Ciência e Tecnologia e do Desenvolvimento, Indústria e Comércio Exterior, para a realização de investimentos em pesquisa e desenvolvimento - P&D no País, com aplicação anual, em no mínimo 5% (cinco por cento) de seu faturamento bruto no mercado interno, sendo pelo menos 1% (um por cento) aplicado mediante convênio com centros ou institutos de pesquisa ou entidades brasileiras de ensino, oficiais ou reconhecidas, credenciadas pelo Comitê da Área de Tecnologia da Informação - CATI, de que trata o art. 30 do Decreto nº 5.906/2006, ou pelo Comitê das Atividades de Pesquisa e Desenvolvimento da Amazônia - CAPDA, de que dispõe o Decreto nº 6.008/2006.
Somente serão habilitadas as pessoas jurídicas que, isolada ou conjuntamente, realizem pesquisa e desenvol-vimento, exclusivamente, em relação a dispositivos:
a) eletrônicos semicondutores, classificados nas posições 85.41 e 85.42 da Nomenclatura Comum do Mercosul - NCM, relacionados no Anexo I abaixo, as atividades de:
a.1) concepção, desenvolvimento e projeto (design);
a.2) difusão ou processamento físico-químico; ou
a.3) encapsulamento e teste;
b) mostradores de informação (displays) relacionados no Anexo I abaixo, com tecnologia baseada em componentes de cristal líquido (LCD), fotoluminescentes (painel mostrador de plasma - PDP), eletroluminescentes (diodos emissores de luz - LED, diodos emissores de luz orgânicos - OLED ou displays eletroluminescentes a filme fino - TFEL) ou similares com microestruturas de emissão de campo elétrico, destinados à utilização como insumo em equipamentos eletrônicos, as atividades de:
b.1) concepção, desenvolvimento e projeto (design);
b.2) fabricação dos elementos fotossensíveis, foto ou eletroluminescentes e emissores de luz; ou
b.3) montagem final do mostrador e testes elétricos e ópticos.
Nota: Os dispositivos citados na letra “b” acima não contemplam os tubos de raios catódicos (CRT).
A propriedade intelectual resultante da pesquisa e desenvolvimento realizados mediante os projetos aprovados no âmbito do PADIS deve ter a proteção requerida no território nacional junto ao órgão competente, conforme o caso, pela pessoa jurídica beneficiária do programa.
3.2.1 - Condições Para a Aprovação Dos Projetos
A aprovação dos projetos de investimento em pesquisa e desenvolvimento de que trata esta matéria será feita em portaria conjunta dos Ministérios da Fazenda, da Ciência e Tecnologia e do Desenvolvimento, Indústria e Comércio Exterior, condicionados à:
a) comprovação da regularidade fiscal da pessoa jurídica interessada, em relação aos tributos e contribuições administrados pela Secretaria da Receita Federal do Brasil;
b) observância das instruções fixadas em portaria conjunta dos Ministérios acima citados; e
c) verificação, pela Secretaria da Receita Federal do Brasil, nos termos e condições a serem estabelecidos em ato próprio, do enquadramento aos anexos abaixo relacionados dos bens apresentados pela pessoa jurídica habilitada.
4. OBRIGAÇÕES DO BENEFICIÁRIO DO PADIS
A pessoa jurídica beneficiária do PATVD deverá, até o dia 31 de julho de cada ano, encaminhar ao Ministério da Ciência e Tecnologia os relatórios demonstrativos do cumprimento, no ano-calendário anterior, das obrigações e condições citadas no subitem 3.2.1 acima.
Caso os investimentos em pesquisa e desenvolvimento a que se sujeita a beneficiária não atingirem, em um determinado ano-calendário, o percentual mínimo fixado, esta deverá aplicar, até o último dia útil do mês de março do ano subsqüente àquele em que não foi atingido o limite, o valor residual no Fundo Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico - FNDCT (CT-INFO ou CT-Amazônia), acrescido de 20% (vinte por cento) de multa e de juros equivalentes à taxa do Sistema Especial de Liquidação e de Custódia - SELIC, calculados desde 1º de janeiro do ano subseqüente àquele em que não foi atingido do percentual até a data da efetiva aplicação.
A pessoa jurídica beneficiária PADIS deverá apresentar, nos prazos e formas a serem definidos pela Secretaria da Receita Federal do Brasil, declarações periódicas que demonstrem as relações insumo-produto dos bens beneficiados, para efeito de acompanhamento e controle.
A pessoa jurídica vendedora de bens à beneficiária do programa pauta desta matéria deverá fazer constar na Nota Fiscal de Venda a expressão “Venda a pessoa jurídica habilitada ao PADIS, efetuada com redução a zero de alíquota de contribuição ao PIS/PASEP, da COFINS e do IPI”, especificando o dispositivo legal correspondente, bem como o número do ato concedente da habilitação ao adquirente.
5. PENALIDADES
5.1 - Encargos
A não aplicação do investimento até o último dia útil do mês de março do ano subseqüente àquele em que não foi atingido o percentual mínimo, referido no subitem 3.2 acima, condiciona o contribuinte ao pagamento de juros e multa de mora vigentes referentes às contribuições e imposto não pagos em função das condições da letra “c” do item 2.
Os juros e a multa, neste caso, serão devidos e recolhidos de forma isolada e calculados:
a) a partir da data da efetivação da venda; e
b) sobre o valor das contribuições não recolhidas, proporcionalmente à diferença entre o percentual mínimo de aplicações em pesquisa e desenvolvimento e o efetivamente realizado.
As penalidades acima não desobrigam o beneficiário do PADIS de efetuar a aplicação no FNDCT (CT-INFO ou CT-Amazônia), com os devidos acréscimos.
A falta ou irregularidade no cumprimento do disposto acima implica em suspensão ou cancelamento da habilitação ao PADIS.
5.2 - Suspensão
As pessoas jurídicas beneficiárias do PADIS estão sujeitas, a qualquer tempo, da punição de suspensão dos benefícios nele contidos, sem prejuízo das demais sanções aplicáveis, quando:
a) não apresentarem ao Ministério da Ciência e Tecnologia ou não forem aprovados os relatórios demonstrativos do cumprimento, no ano-calendário anterior, das obrigações e condições citadas no subitem 3.2.1 acima;
b) não cumprirem o disposto no subitem 3.2 acima;
c) apresentarem irregularidade em relação ao tributo ou contribuição administrado pela Receita Federal do Brasil; e
d) utilizarem de forma diversa os bens listados nos anexos abaixo em relação à atividade beneficiada, segundo o critério insumo-produto ou insumo-capacidade de produção a serem definidos em portaria conjunta dos Ministérios da Ciência e Tecnologia e do Desenvolvimento, Indústria e Comércio Exterior.
5.3 - Cancelamento
O cancelamento da habilitação da pessoa jurídica ao PADIS ocorrerá quando:
a) no prazo de 90 (noventa) dias não houver sanea-mento das infrações que deram origem à suspensão do benefício; e
b) houver causa de suspensões em prazo inferior a 2 (dois) anos-calendário.
O cancelamento somente poderá ser revertido após 2 (dois) anos-calendário contados da data em que foi sanada a infração que o motivou.
A suspensão e o cancelamento serão formalizados em ato da Secretaria da Receita Federal do Brasil.
6. ANEXOS
ANEXO I
Produtos Finais
Dispositivos eletrônicos semicondutores |
NCM |
Diodos, transistores e dispositivos semelhantes semicondutores; dispositivos fotossensíveis semicondutores, incluídas as células fotovoltaicas, mesmo montadas em módulos ou em painéis; diodos emissores de luz; cristais piezelétricos montados |
8541 |
Circuitos integrados eletrônicos. |
8542 |
Mostradores de Informação |
NCM |
Dispositivos de plasma |
8529 |
Displays construídos a partir de OLED da posição 8541 |
--- |
Displays construídos a partir de TFEL das posições 8541 e 8542 |
--- |
Dispositivos de cristais líquidos (LCD) |
9013.80.10 |
ANEXO II
Máquinas, aparelhos, instrumentos e equipamentos a serem incorporados ao ativo imobilizado, para emprego nas atividades vinculadas aos produtos finais
Descrição |
NCM |
Tanques em plástico |
3925 |
Tanques em aço inoxidável, com capacidade superior a 300 litros |
7309.00 |
Tanques em aço inoxidável, com capacidade não superior a 300 litros |
7310 |
Tanques para estocagem de gases |
7311 |
Bombas |
8413 |
Partes de bombas |
8413.91 |
Bombas de vácuo |
8414.10.00 |
Compressores |
8414 |
Exaustores |
8414 |
Partes de bombas de vácuo e compressores |
8414.90 |
Unidades funcionais destinadas ao condicionamento e refrigeração do ar de “salas limpas” |
8415 |
Fornos laboratoriais elétricos |
8417 |
Aparelhos de destilação |
8419.40 |
Trocadores de calor |
8419.50 |
Estufas elétricas |
8419.89.20 |
Placas de aquecimento |
8419 |
Evaporadores |
8419.89.40 |
Partes de destiladores, trocadores de calor, estufas e evaporadores |
8419.90 |
Aparelhos para filtrar ou depurar líquidos |
8421.2 |
Aparelhos para filtrar ou depurar gases |
8421.3 |
Partes de aparelhos para filtrar ou depurar líquidos ou gases |
8421.9 |
Máquinas para aplicação e remoção de polarizador |
8424 |
Máquinas de jateamento para formação de estruturas em substratos inorgânicos |
8424 |
Máquinas-ferramentas que trabalhem por eliminação de qualquer matéria |
8456 |
Máquinas automáticas para processamento de dados apresentadas sob a forma de sistemas |
8471.49 |
Unidades de entrada ou de saída de máquinas automáticas para processamento de dados, podendo conter, no mesmo corpo, unidades de memória |
8471.60 |
Unidades de memória de máquinas automáticas para processamento de dados |
8471.70 |
Partes e acessórios das máquinas da posição 8471 |
8473.30 |
Máquinas para fabricação ou trabalho a quente do vidro ou das suas obras |
8475.2 |
Máquinas para laminação de polímeros |
8477 |
Máquinas de moldar por injeção |
8477.10 |
Extrusoras |
8477.20 |
Máquinas de moldar por insuflação |
8477.30 |
Máquinas de moldar a vácuo e outras máquinas de termoformar |
8477.40 |
Máquinas de estampagem para gravação de estruturas em materiais orgânicos |
8479 |
Robôs industriais |
8479.50.00 |
Máquinas para posicionar componentes elétricos e/ou eletrônicos |
8479 |
Agitadores |
8479.82.10 |
Equipamentos para limpeza por ultrassom |
8479.89.91 |
Caixas-de-luvas (“glove box”) |
8479 |
Máquinas e equipamentos para estampagem (“silk screen”) |
8442 |
Partes de máquinas e equipamentos para estampagem (“silk screen”) |
8442.40 |
Válvulas |
8481 |
Partes de válvulas |
8481.90 |
Juntas |
8484 |
Máquinas e aparelhos dos tipos utilizados exclusiva ou principalmente na fabricação de esferas (“boules”) ou de plaquetas (“wafers”) de dispositivos semicondutores para a fabricação de circuitos integrados eletrônicos ou de dispositivos de visualização de tela plana |
8486 |
Máquinas e aparelhos especificados na Nota 9 C do Capítulo 84 da NCM; Partes e acessórios |
8486 |
Partes e acessórios |
8486.90.00 |
Motores elétricos |
8501 |
Transformadores elétricos, conversores elétricos estáticos, bobinas de reatância e de auto-indução. |
8504 |
Quadros, painéis, consoles, cabines, armários e outros suportes com dois ou mais aparelhos das posições 8535 ou 8536, para comando elétrico ou distribuição de energia (incluídos os que incorporem instrumentos ou aparelhos do capítulo 90 da NCM, adequados para tensão não superior a 1.000 Volts |
8537 |
Partes de lâmpadas |
8539 |
Microscópios óticos |
9011 |
Partes e acessórios de microscópios óticos |
9011.90 |
Microscópios eletrônicos |
9012 |
Partes e acessórios de microscópios eletrônicos |
9012.90 |
Instrumentos e aparelhos para medida ou controle da vazão, do nível, da pressão ou de outras características variáveis dos líquidos ou gases |
9026 |
Instrumentos e aparelhos para análises físicas ou químicas (por exemplo, polarímetros, refratômetros, espectrômetros, analisadores de gases ou de fumaça) |
9027 |
Osciloscópios, analisadores de espectro e outros instrumentos e aparelhos para medida ou controle de grandezas elétricas |
9030 |
Instrumentos, máquinas e aparelhos de medida ou controle de discos (“wafers”) ou de dispositivos semicondutores ou ainda para controle de máscaras ou retículas utilizadas na fabricação de dispositivos semicondutores |
9031.41 |
Conjunto para “teste de vazamento a hélio” |
9031.80.99 |
ANEXO III
Insumos para emprego nas atividades vinculadas aos produtos finais
Descrição |
NCM |
Cloro |
2801.10.00 |
Hidrogênio |
2804.10.00 |
Hélio |
2804.29 |
Argônio |
2804.21.00 |
Nitrogênio |
2804.30.00 |
Oxigênio |
2804.40.00 |
Silício, não dopado |
2804.61.00 |
Fósforo adequado para “filed emission displays” e lâmpadas CCFL e EEFL |
2804.70 |
Ácido clorídrico |
2806.10 |
Ácido sulfúrico |
2807.00 |
Ácido nítrico |
2808.00.10 |
Ácido fosfórico |
2809.20.1 |
Ácido fluorídrico |
2811.11.00 |
Hidroxilamina |
2825.10.20 |
Brometo de hidrogênio |
2811.19.90 |
Óxido nitroso |
2811.29.90 |
Tricloreto de boro |
2812.10.19 |
Tetracloreto de silício |
2812.10.19 |
Tetracloreto de estanho |
2812.10.19 |
Oxicloreto de fósforo |
2812.10.22 |
Trifluoreto de nitrogênio |
2812.90.00 |
Hexafluoreto de enxofre |
2812.90.00 |
Dióxido de carbono |
2811.21.00 |
Trifluoreto de boro |
2812.90.00 |
Tribrometo de boro |
2812.90.00 |
Amoníaco (gás amoníaco) |
2814.10.00 |
Hidróxido de amônia |
2814.20.00 |
Trióxido de antimônio |
2825.80.10 |
Fluoreto de amônia |
2826.19.90 |
Hexafluoreto de tungstênio |
2826.90.90 |
Volframato de titânio |
2841.80.90 |
Soluções de metais preciosos, apresentadas em estado coloidal |
2843.10.00 |
Peróxido de hidrogênio |
2847.00.00 |
Fosfina (fosfeto de hidrogênio ou hidreto de fósforo) |
2848.00.90 |
Arsina |
2850.00.90 |
Diborano |
2850.00.90 |
Diclorometano (cloreto de metileno) |
2903.12.00 |
Trimetilfosfito (metilfosfonato de dimetila) |
2931.00.90 |
Trimelborato (metilborato de dimetila) |
2931.00.90 |
Trietilfosfato (metilfosfato de dimetila) |
2931.00.90 |
Fluoreto de metila |
2903.39.19 |
Hexafluoretano |
2903.39.19 |
Fluormetano |
2903.39.19 |
Trifluormetano |
2903.39.19 |
Trifluoroetano |
2903.39.19 |
Tetrafluorometano |
2903.39.19 |
Difluorometano |
2903.39.19 |
Triclorofluormetano |
2903.41.00 |
Octafluorociclobutano |
2903.59.90 |
Etilenoglicol |
2905.31.00 |
Metanol |
2905.11.00 |
Álcool isopropílico |
2905.12.20 |
Álcool n-butílico |
2905.13.00 |
Metoxitanol (éter monoetílico de etilenoglicol) |
2909.49.29 |
Acetato butílico (acetato de n-butila) |
2915.33.00 |
Acetona |
2914.11.00 |
Ácido acético |
2915.21.00 |
Monoetanolamina |
2922.11.00 |
Hidróxido de tetrametilamônio |
2923.90.90 |
Dimetilacetamida |
2924.29.49 |
Silano |
2931.00.29 |
Diclorosilano |
2931.00.29 |
Tetrametilsilano |
2931.00.29 |
Tetrametilciclotetrasiloxano |
2931.00.29 |
Hexametildisilano |
2931.00.29 |
Tetraetilortosilicato |
2931.00.29 |
Trimetilfosfato |
2931.00.39 |
Isopropóxido de estanho |
2931.00.49 |
Lactato de alumínio |
2931.00.69 |
Isopropóxido de titânio |
2931.00.90 |
Trimetilborato |
2931.00.90 |
N-Metil-2-Pirrolidona |
2933.79.90 |
Fritas de vidro |
3207.40.10 |
Adesivos para “displays” |
3506 |
Preparações para decapagem de metais |
3810.10.10 |
Pastas e pós para soldar |
3810.10.20 |
Fluxos para soldar |
3810.90.00 |
Preparações para enchimento ou revestimento de eletrodos ou de varetas para soldar |
3810.90.00 |
Solventes e diluentes orgânicos, não especificados nem compreendidos em outras posições |
3814.00.00 |
Preparações concebidas para remover tintas ou vernizes |
3814.00.00 |
Lâminas de silício monocristalino do tipo p, dopadas com boro (B), com ou sem camada epitaxial, orientação cristalina de <111> ou <100> |
3818.00.10 |
Lâminas de silício monocristalino, dopadas com fósforo, arsênio ou antimônio, com ou sem camada epitaxial, orientação cristalina de <111> ou <100> |
3818.00.10 |
Susbtrato de quartzo, na forma de bolachas |
3818.00.90 |
Susbstratos para dispositivos fotônicos, na forma de bolachas |
3818.00.90 |
Mistura de fosfina e nitrogênio |
3824.90.79 |
Mistura de arsina e hidrogênio |
3824.90.79 |
Mistura de hidrogênio e nitrogênio |
3824.90.79 |
Mistura de oxigênio e hélio |
3824.90.79 |
Mistura de diborano com nitrogênio |
3824.90.79 |
Mistura de fosfina e silano |
3824.90.79 |
Mistura de fluoreto de amônia e ácido fosfórico, em água |
3824.90.79 |
Revelador de fotoresiste |
3824.90.79 |
Removedor de óxidos, tamponado, constituído por mistura de fluoreto de amônia, ácido fluorídrico e água |
3824.90.79 |
Materiais nanoestruturados a base de compostos inorgânicos |
3824.90.79 |
Mistura de fluoreto de amônia e ácido fosfórico, em água |
3824.90.79 |
Mistura de tetrafluorometano em oxigênio |
3824.90.89 |
Mistura de monoetanolamina, hidroxilamina e pirocatecol, em água |
3824.90.89 |
“Fotoresiste orgânico” (solução de polímero ou resina epóxi em solvente orgânico) |
3824.90.89 |
Mistura de ácido fosfórico, ácido nítrico e ácido acético, sem surfactante. |
3824.90.89 |
Mistura de ácido fosfórico, ácido nítrico e ácido acético, com surfactante. |
3824.89.90 |
Materiais nanoestruturados em carbono |
3824.89.90 |
Cristais líquidos, incluindo os termotrópicos e os liotrópicos |
3824.90.89 |
Materiais nanoestruturados a base de compostos orgânicos |
3824.89.90 |
Compostos químicos para aprisionamento de gases residuais (“getters”) |
3824.90 |
Poli (metilmetacrilato) (PMMA) |
3906.10.00 |
Polímeros, do tipo “poliéteres perfluorados”, utilizados como óleos para bombas de vácuo |
3907.20.90 |
Resina epóxi |
3907.30 |
Poli (dimetilglutarimida) (PMGI) |
3911.90.29 |
Poliímidas |
3911.90.29 |
Tubos e acessórios, de plástico |
3917 |
Chapas, folhas, tiras, fitas, películas e outras formas planas, auto-adesivas, de plásticos, mesmo em rolos com largura superior a 20 centímetros |
3919.90.00 |
Placas plásticas recobertas com filmes transparentes e condutores de energia |
3926 |
Anéis de seção transversal circular (“O rings”) |
3926.90.6 |
Produtos cerâmicos refratários elaborados de grafita |
6903 |
Tubos de quartzo, não trabalhados |
7002.31.00 |
Ampolas para lâmpadas |
7011 |
Vidraria para laboratórios |
7017 |
Pastilhas de vidro |
7020.00 |
Tubos de quartzo, trabalhados |
7020.00.90 |
Janelas de safira |
7103.91.00 |
Janelas de diamante |
7104.20.10 |
Materiais sintéticos ou reconstituídos, com propriedades piezoelétricas, apresentados na forma de placas ou lâminas |
7104.20.90 |
Pó de diamante para polimento de superfícies |
7105 |
Ouro, incluído o ouro platinado, apresentado em pó, em formas brutas ou semimanufaturadas |
7108 |
Platina em pó, em formas brutas ou semimanufaturadas |
7110.1 |
Paládio em pó, em formas brutas ou semimanufaturadas |
7110.2 |
Tubos em aço inoxidável |
7304 |
Acessórios para tubos em aço inoxidável |
7307 |
Ligas de cobre para solda |
7405 |
Ligas de níquel para solda, na forma de barras, perfis ou fios |
7505 |
Pós e escamas de níquel, ligados ou não ligados |
7504.00 |
Fios de níquel, ligados ou não ligados |
7505.2 |
Tubos feitos em ligas de níquel |
7507.12.00 |
Placas de alumínio ligado com silício, com cobre ou com silício e cobre, para utilização em equipamento de deposição por bombardeamento catódico |
7606.12 |
Zinco não ligado |
7901.1 |
Tunsgtênio (volfrâmio) e suas obras, incluídos os desperdícios e resíduos |
8101 |
Molibdênio e suas obras, incluídos os desperdícios e resíduos |
8102 |
Placa de cobalto para utilização em equipamento de deposição por bombardeamento catódico |
8105.90.10 |
Titânio e suas obras, incluídos os desperdícios e resíduos |
8108 |
Placas de titânio para utilização em equipamento de deposição por bombardeamento catódico |
8108.90.00 |
Liga de níquel, ferro e cobalto, do tipo “Kovar”, na forma fios, varetas, placas ou tarugos |
8311 |
Janelas de berílio |
8112.19.00 |
Cromo |
8112.2 |
Nióbio e suas obras, incluídos os desperdícios e resíduos |
8112.9 |
Discos de serra |
8208.90.00 |
Partes empregadas em “displays” |
8529 |
Conectores para “displays” |
8536 |
Capas estampadas para componentes eletrônicos |
8541.90.90 |
Capas cerâmicas para componenets eletrônicos |
8541.90.90 |
Tampa superior de capas para componentes eletrônicos |
8541.90.90 |
Circuitos integrados de acionamento para “displays” |
8542 |
Placas de nitreto de titânio para utilização em equipamento de deposição por bombardeamento catódico |
8543.90.90 |
Microespaçadores de materiais dielétricos, orgânicos ou inorgânciso, para separação das placas de vidro de “displays” |
8546 |
Máscaras ou retículos, em vidro ou quartzo, para fotogravação, com impressão em filme metálico ou composto para uso em alinhadoras por contato, projeção ou de repetição |
9002.90.00 |
ANEXO IV
Ferramentas computacionais para emprego nas atividades vinculadas aos produtos finais
Descrição |
NCM |
Programas de computador, do tipo EDA (“Electronic Design Automation”) ou semelhante, para a realização de projeto de circuitos integrados e que fazem parte das ferramentas de CAE/CAD/CAM |
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Programas de computador, do tipo “IP cores” ou semelhante, contendo elementos de projeto pré-programados e testados, que desempenham funções específicas, utilizados no projeto de circuitos integrados |
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Simuladores de processo, do tipos ISE/TCAD, “Suprem” ou semelhantes, para executarem simulações das etapas de processamento físico-químico, utilizados no processo de produção e/ou de gestão da produção de circuitos integrados |
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Simuladores de fotolitografia, do tipo “Prolith” ou semelhante, utilizados no processo de produção e/ou de gestão da produção de circuitos integrados |
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Programas para extração de parâmetros elétricos e modelamento, utilizados no processo de produção e/ou de gestão da produção de circuitos integrados |
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Progamas para medidas elétricas, utilizados exclusiva e especificamente no processo de produção e de gestão da produção de circuitos integrados |
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Programas para análise e interpretação de defeitos, utilizados exclusiva e especificamente no processo de produção e de gestão da produção de circuitos integrados |
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Programas para automação de fábrica, utilizados exclusiva e especificamente no processo de produção e de gestão da produção de circuitos integrados |
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Programas para otimização de rendimento, utilizados exclusiva e especificamente no processo de produção e de gestão da produção de circuitos integrados |
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Fundamentos Legais:
Os citados no texto.